CompactTurbo – Neue leistungsstarke Vakuumpumpen
Die vier Modelle der CompactTurbo™M-Reihe sind für den Einsatz in der Beschichtung, Halbleiterindustrie, Forschung und Entwicklung sowie bei zahlreichen Industrieanwendungen die passenden Vakuumpumpen.
Die CompactTurbo von Pfeiffer Vacuum (Foto: Pfeiffer Vacuum).
Sie zeichnen sich durch ein hohes Saugvermögen von 1000-2000 l/s sowohl für leichte (H2, HE) als auch für schwere Gase (Ar, CF4) aus. Aufgrund der kompakten Bauweise der Pumpen wird wenig Raum benötigt. Diese Eigenschaften entsprechen den hohen Anforderungen in der Beschichtung, insbesondere der Halbleiterindustrie. Das innovative Rotorkonzept verzichtet auf zusätzliche Druckstufen im Bereich des Vorvakuums. Dies verleiht der CompactTurbo -Reihe höchste Partikelverträglichkeit und verhindert Kondensation im Vorvakuumbereich. Der Einsatz in Ionenimplantern sowie in EUV-, CVD- und PVD-Prozessen ist somit problemlos möglich.
Die CompactTurbo erfüllen die hohen Anforderungen der Industrie in Bezug auf Staub- und Spritzwasserschutz (IP 54). Zudem werden den Halbleiterindustrienormen Semi F-47 (Stromausfall) und E-74 (mechanische/elektrische Schnittstellen) entsprochen.
Innovative Technik und wirtschaftlich auf Dauer
Die robuste Rotorlagerung ist Grundlage für eine hohe „Meantime to Failure“ von > 200.000 Stunden. Einfache Wartungsmöglichkeiten und lange Wartungsintervalle führen zu geringen Betriebskosten und hoher Lebensdauer der Pumpen. Durch das umfangreiche Zubehör können die Pumpen an die Kunden- und Prozessanforderungen, wie zum Beispiel korrosive Prozesse, angepasst werden. Das optional verfügbare integrierte Netzteil sichert eine einfache Integration in die Anwendung. Ein separater klimatisierter Schaltschrankplatz wird dadurch eingespart.
Quelle: Pfeiffer Vacuum GmbH
