GEMÜ P35 und C60: Membranventile für hochreine Anwendungen in der Halbleiterindustrie
Membranventile und Mehrwegeventilblock von GEMÜ für hochreine Anwendungen in der Halbleiterindustrie (Bildquelle: GEMÜ Gebr. Müller Apparatebau GmbH & Co. KG)
Kompakte Bauweise für Prozesstools
In der Halbleiterindustrie stellen komplexe Prozesse und anspruchsvolle Reinraumbedingungen hohe Anforderungen an die eingesetzten Komponenten. Gleichzeitig spielt die effiziente Nutzung des verfügbaren Bauraums eine zentrale Rolle. Die kompakte Bauweise von GEMÜ P35 ermöglicht eine platzsparende Integration, während hohe Kv-Werte einen hohen Mediendurchfluss ermöglichen. Das Ventil eignet sich damit insbesondere für Prozesstools, bei denen eine effiziente Nutzung des verfügbaren Bauraums entscheidend ist. Mit einem Betriebsdruck von bis zu 6 bar ist es auf die Anforderungen von Prozesstool-Anwendungen in der Halbleiterindustrie ausgelegt.
Plug Diaphragm Technologie
Ein zentrales Merkmal von GEMÜ P35 ist die Plug Diaphragm Technologie (PD-Technologie). Sie trennt Medium und Antrieb hermetisch voneinander. Das flache Design der Plug Diaphragm ermöglicht eine effiziente Bauraumnutzung und minimiert Toträume. Die medienberührenden Komponenten aus modifiziertem PTFE und PFA sind für aggressive Medien ausgelegt. GEMÜ P35 ist in den Antriebsgrößen 1 und 2 sowie in den Nennweiten ¼ bis ¾ Zoll erhältlich. Für die Integration in unterschiedliche Anlagenkonzepte stehen Flare- und Nexus-Connect-Anschlüsse zur Verfügung.
Integration in Mehrwegeventilblöcke
Als Weiterentwicklung von GEMÜ C50 lässt sich GEMÜ P35 in kundenspezifische Mehrwegeventilblöcke GEMÜ PC50 integrieren. Im Vergleich zur Integration von GEMÜ C50 in einen Mehrwegeventilblock GEMÜ PC50 lassen sich mit GEMÜ P35 nach Herstellerangaben Volumenreduzierungen von bis zu 55 Prozent bei gleichzeitig höheren Kv-Werten erzielen.
GEMÜ C60 mit erweiterten Steuerdruckbereichen
Die erforderlichen Steuerdrücke des pneumatisch betätigten 2/2-Wege-Membranventils GEMÜ C60 richten sich nach Antriebsgröße und Steuerfunktion. So lässt sich die Druckversorgung gezielt auf das jeweilige Anlagenkonzept abstimmen. GEMÜ C60 ist speziell für High-Purity-Anwendungen entwickelt und kommt insbesondere in der Versorgungs- und Verteilungsebene moderner Halbleiterfabriken zum Einsatz.
Bei der NC-Variante (Normally Closed, im Ruhezustand geschlossen) liegt der Steuerdruck je nach Antriebsgröße bei 4 bis 7 bar, 4,5 bis 7 bar oder 5 bis 7 bar. Bei der NO-Variante (Normally Open, im Ruhezustand geöffnet) beträgt der Steuerdruck für die Antriebsgrößen 1 bis 3 maximal 5 bar. Für Antriebsgröße 4 gilt ein maximaler Steuerdruck von 4,5 bar. Darüber hinaus hat GEMÜ die Arretierung des Schauglases überarbeitet, um dessen Sitz im Antriebsgehäuse zu verbessern.
